大幅拉升！英伟达、台积电，突传大动作！黄仁勋即将发声

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芯片产业链传出一则新消息！

今日（10月19日），在美股夜盘交易中，英伟达和台积电股价均大幅拉升。

截至记者发稿，英伟达上涨1.

73%，台积电上涨1.

80%。

美指期货亦全线拉升，道指期货涨超0.

4%，纳指期货涨超1.

3%。

消息面上，据韩国《首尔经济日报》报道，三星电子将采用台积电3纳米工艺，生产英伟达下一代定制高带宽存储器（HBM）的核心部件——基础裸片（base die）。

此外，令市场关注的是，黄仁勋将发表主题演讲。

当地时间10月20日至22日，英伟达GTC大会将在德国柏林举行，黄仁勋将在21日发表主题演讲。

作为英伟达下半年最受关注的技术与生态大会，本届GTC把重心从“卖GPU”进一步推向“卖AI工厂”，据官方介绍，大会设有100多场专题分享，覆盖完整人工智能技术栈，将聚焦加速计算、智能体AI（Agentic AI）、物理AI（Physical AI）、机器人、开源模型、AI基础设施等方向。

此前，三星的HBM产品从作为存储芯片的核心裸片（core die）到承担系统半导体功能的基础裸片均由自家生产。

此次针对英伟达NVHBM，三星决定接受英伟达的技术要求，放弃原有的一站式（turnkey）制造方案，改为分环节协作。

据业内人士透露，英伟达已要求负责生产NVHBM的三星电子、SK海力士和美光科技三家供应商，均采用台积电3纳米工艺制造基础裸片；

同时要求核心裸片统一采用第六代DRAM工艺（代号1c）。

NVHBM是英伟达于8月发布的定制HBM，基于第七代，即下一代HBM架构HBM4E。

英伟达提出上述要求，是因为各HBM供应商制造方式不同，同一设计难以保证性能一致；

统一标准也可减轻对各家产品逐一验证的负担。

四年前，三星电子曾与台积电合作，确保HBM与图形处理器（GPU）连接时兼容台积电的封装工艺；

但这是双方首次在HBM制造阶段展开合作。

据报道，对于标准HBM产品，三星电子将维持一站式策略。

其第六代HBM4已于今年早些时候在全球率先量产，第七代HBM4E正进行量产验证；

这两款产品的基础裸片均采用三星自家4纳米晶圆代工工艺，核心裸片则在三星华城和平泽园区的1c产线上生产。

对于供应AMD等其他客户的定制HBM，三星计划继续采用一站式方案。

同时，三星也未排除由自家晶圆代工厂开发和量产NVHBM的可能性。

一位业内人士表示：“三星正在评估能否在自有晶圆代工厂生产NVHBM基础裸片。

这是为应对NVHBM需求可能超出台积电产能而做的对冲准备。

” 校对：刘榕枝 特别

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